激光熔覆技術在質量和工藝方面具有多項優(yōu)勢，熔覆即產生一層與基體材料不同成分的新表面，熔覆應用需要更優(yōu)質的光源。基于大功率直接二極管陣列的半導體激光熔覆系統(tǒng)就擁有更優(yōu)質的光源，且在運作成本、操作便利性和輸出特性等方面優(yōu)于傳統(tǒng)的激光器。?半導體激光熔覆系統(tǒng)能產生數千瓦的總輸出功率。河南省煤科院耐磨技術有限公司研發(fā)的半導體激光熔覆設備，總輸出功率為10000w，光斑尺寸2Ｘ30mm。此套半導體激光熔覆設備還具有很高的熔覆效率和較低的人員成本。?